Si 양극 반쪽 전지의 건설. 실험 방법. 이 연구에서는 기본 SiOx 표면층이 있는 Si 웨이퍼 샘플을 사용했습니다. 모든 실리콘 전극(1cm× 1cm 정사각형)은 표면 오염을 제거하기 위해 확립된 다단계 세척 프로토콜로 세척되었습니다.33 실리콘 웨이퍼(Czochralski 프로세스, 0.001로 붕소 도핑됨)− 0.005Ω cm, (100) 방향, 700μ m 두께, Addison Engineering에서 구입)을 애노드로 사용했습니다. 그들은 1의 영역으로 레이저 절단되었습니다.× 1cm2 후 RCA 세척을 받았습니다.33 원래의 기본 SiOx 필름을 보존하기 위해 HF 산 에칭 단계 없이 RCA 세척이 완료되었습니다.

세척 후 전극은 100도에서 진공 오븐에서 건조되었습니다.° C 세포 제조 전. 본 연구를 위해 선정된 전해질은 1.2 mol/L LiPF6를 에틸렌 카보네이트(EC):에틸 메틸 카보네이트(EMC) 용액에 각각 3:7 중량비로 용해시킨 것이다. 모든 Si 전극은 코인 셀에서 작동 전극으로 사용되었으며, 리튬이

금속은 상대 전극으로 사용되었습니다. 모든 셀에서 4.3μ L의 전해질이 사용되었습니다. 260두께의 유리 극세사 필터(Whatman, GE Healthcare Life Sciences)μ Celgard 2325 분리기가 있는 m이 전지 조립에 사용되었습니다. 앞서 언급한 구성 요소를 포함하는 코인 셀을 Ar이 채워진 글로브박스에 조립했습니다. 일정한 내부 압력에서 세포를 유지하기 위해 0.5mm 두께의 스테인리스강 스페이서와 0.3mm 두께의 스테인리스강 스프링을 사용했습니다. NS 코인 셀 크림 퍼 (샤먼 Tmaxcn Inc.) 4초의 압력을 가하여 조립을 완료하는 데 사용되었습니다.